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描述:產(chǎn)品簡(jiǎn)介:碳化硅研磨紙利用國(guó)際上超精密涂布技術(shù),將微米或納米級(jí)研磨微粉(碳化硅)與新型高分子材料均勻分散后,涂覆于高強(qiáng)度薄膜表面而成,然后經(jīng)過(guò)高精度裁剪工藝加工而成
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介: 碳化硅研磨紙利用國(guó)際上超精密涂布技術(shù),將微米或納米級(jí)研磨微粉(碳化硅) 與新型高分子材料均勻分散后,涂覆于高強(qiáng)度薄膜表面而成,然后經(jīng)過(guò)高精度裁剪工藝加工 而成。碳化硅研磨紙主要用來(lái)研磨表面平面度要求高的各類(lèi)無(wú)機(jī)非金屬材料如陶瓷插芯的去 膠粗磨; 塑料插芯的研磨拋光; 磁頭的精磨拋光等。碳化硅研磨紙主要適用于我公司制造的 UNIPOL 系列研磨拋光機(jī),研磨紙背面帶有背膠,可直接貼附在研拋底片上,再吸附于研磨 盤(pán)表面,然后對(duì)樣品進(jìn)行研磨拋光。
產(chǎn)品名稱 | 碳化硅研磨紙 |
主要特點(diǎn) | 1、具有較好的強(qiáng)度和柔韌性,限度的提高研磨質(zhì)量。 2、耐用性良好,研磨效率高。 3、研磨后的樣品平面度高。 |
產(chǎn)品參數(shù) | 1、粒度: 1µm 、2µm 、3µm 、5µm 、9µm 、15µm 、30µm 2、直徑: Ø203mm 、Ø300mm 、Ø381mm |
研磨紙利用國(guó)際上超精密涂布技術(shù),將微米或納米級(jí)研磨微粉(金剛石、碳化硅、氧化鋁、氧化硅、氧化鈰等)與新型高分子材料均勻分散后,涂覆于高強(qiáng)度薄膜表面而成,然后經(jīng)過(guò) 高精度裁剪工藝加工而成。研磨紙主要用來(lái)研磨表面平面度要求高的各類(lèi)無(wú)機(jī)非金屬材料如陶瓷插芯的去膠粗磨;塑料插芯的研磨拋光; 磁頭的精磨拋光、光纖連接器的研磨; 太陽(yáng)能 電池硅片的研磨;硬盤(pán)碳層凸起的去除;ITO 凸起的去除;光學(xué)材料的研磨拋光、光纖連接 器的研磨(粗磨、中磨、精磨);硬盤(pán)磁頭、盤(pán)面的拋光;光學(xué)玻璃、光學(xué)晶體、LED、LCD 的研磨拋光;半導(dǎo)體材料(砷化鎵、磷化銦等)的研磨拋光等。研磨紙主要適用于我公司制 造的 UNIPOL 系列研磨拋光機(jī),研磨紙背面帶有背膠,可直接貼附在研拋底片上,再吸附于 研磨盤(pán)表面,然后對(duì)樣品進(jìn)行研磨拋光。
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